Infineon и Canon будут сотрудничать в области создания литографических систем на базе лазеров с длиной волны в 157 нм

Компании Infineon Technologies и Canon объявили сегодня о начале совместного исследовательского проекта в области создания литографических систем с использованием лазеров на основе соединений фтора. В дальнейшем компании планируют сотрудничать и при промышленном внедрении нового процесса. На первом этапе все работы будут проводиться в принадлежащем Canon центре Utsunomiya Optical Products Operations с применением разработанных Canon «фторных» экспозиционных систем. У Infineon подобное оборудование должно появиться лишь в 2003 г., и после этого работы будут перенесены в исследовательские организации, принадлежащие Infineon.

Ожидается, что переход на лазеры с длиной волны 157 нм позволит уменьшить размеры элементов электронных схем до 70 нм (0,07 мкм), тогда как современное литографическое оборудование с применением лазеров на базе фторида аргона (длина волны 193 нм) и фторида криптона (248 нм) ограничивает размеры логических элементов до 90 нм. Промышленное внедрение 0,07-микронной технологии должно произойти не ранее 2006 г.

Источник новости: Infineon