Корпорация Intel открыла новый исследовательский центр, который сосредоточится на разработке полупроводниковых технологий на базе 300 мм кремниевых пластин

Корпорация Intel объявила об открытии первой в мире исследовательской лаборатории по разработке технологий производства интегральных схем на базе 300 мм кремниевых пластин. Научный центр, получивший название RP1 (RP обозначает «research and pathfinding»), стоил компании 250 млн. долл. В его задачи будет входить разработка нового поколения фотолитографических процессов, высокопроизводительных транзисторов, перспективных соединений, в том числе медных и оптических, а также более экологичных производственных процессов.

В RP1 будет также базироваться Components Research Lab — подразделение Intel Labs, работающее с полупроводниковыми технологиями, на 2-3 поколения опережающими применяемые сегодня производственные процессы. Исследовательский центр будет тесно сотрудничать с экспериментальным производством D1C и заводом Fab 20. При этом RP1 будет способствовать ускорению внедрения новых процессов в производство и их более эффективному использованию.

Источник новости: Intel